Установка вакуумного напыления тонких пленок
- Главная /
- Оборудование /
- Технологическое оборудование /
- Установка вакуумного напыления тонких пленок
Назначение: Осаждение тонких пленок методом лазерного и магнетронного напыления.
Основные технические характеристики:
- Толщина осаждаемых слоев от 2 до 1000 нм;
- Материал активного тела лазера - Nd:YAG;
- Рабочие длины волн лазера - 532 и 1064 нм;
- Длительность импульсов - 10-12 нс;
Установка предназначена для осаждения тонких пленок методом лазерного и магнетронного напыления. Воздействие интенсивного импульсного лазерного излучения на твердотельные материалы вызывает формирование плазменно-парового потока вещества мишени - эрозионного факела.
Осаждение такого потока на поверхность подложки позволяет наносить различные по химическому составу наноразмерные и тонкопленочные функциональные слои и многослойные структуры на основе металлов, полупроводников и диэлектриков.
Имеется возможность получения сплавных тонкопленочных слоев заданного стехиометрического состава, а также нагрева подложек до температуры 700°С.
Установка позволяет решить следующие задачи:
- Создание наноструктурированныхи нанокомпозитных покрытий трибологического назначения;
- Создание каталитических тонкопленочных материалов на основе халькогенидов переходных металлов;
- Создание сенсорных структур;
Создание тонкопленочных материалов, необходимых для ряда приложений в наноэлектронике, оптике и др.
Лаборатории
Услуги
Последние новости
Укрепление сотрудничества вуза и школ Королёва в рамках системы непрерывного образования «от школы до производства».
Делегация Технологического университета им. А.А Леонова приняла участие в лидер-форуме «Аддитивные технологии. Печать как искусство»
Технологический университет им. А.А. Леонова и предприятие АО «Композит» открыли ещё одну совместную базовую кафедру.
Контакты
Московская область
г. Королев Стадионная, д.1
+7 995 921-07-52